Semi-conducteurs et électronique
Processus chimiques humides dans l’industrie des semi-conducteurs et de l’électronique
Les procédés chimiques humides sont omniprésents et indispensables dans l’industrie des semi-conducteurs et de l’électronique. Avec les machines de PACE-Tec, nous reproduisons ces procédés chimiques humides pour les wafers et substrats en verre.
Domaines d’application typiques des bancs humides:
- Microélectronique: nettoyage et structuration de wafers en silicium pour la fabrication de circuits intégrés (CI) et de transistors.
- Photonique: traitement de wafers en arséniure de gallium (GaAs) et en phosphure d’indium (InP) pour des composants optoélectroniques comme les LED ou les lasers.
- Capteurs: fabrication de MEMS, de capteurs et d’actionneurs par des procédés de gravure et de dépôt.
- Électronique de puissance: traitement de wafers en carbure de silicium (SiC) et en nitrure de gallium (GaN) pour des composants de haute puissance.
- Biotechnologie: modification de surface pour les systèmes de type Lab-on-a-Chip et les capteurs médicaux.
Parmi les étapes typiques pouvant être réalisées sur nos équipements chimiques humides pour la fabrication de wafers :
- Processus de nettoyage tels que SC1 / SC2 / RCA / bain de HF
- Nettoyage par ultrasons
- Nettoyage par mégasons
- Gravure (gravure de l’or, gravure au nitrite, gravure des oxydes, gravure au TMAH, gravure au KOH, gravure au NaOH, gravure de l’aluminium)
- Développement
- Dépôt autocatalytique (sans courant)
- Décapage
- Lift-off
- Séchage
Nos réussites clients dans le domaine des semi-conducteurs et de l’électronique
Nos installations sont utilisées là où la précision et la fiabilité sont essentielles. Vous trouverez ici une sélection de projets clients dans les secteurs des semi-conducteurs et de l’électronique.
Applications exigeantes dans les industries de haute technologie
Nos machines peuvent être configurées aussi bien comme équipements pour wafers unitaires que comme installations batch, selon les exigences spécifiques du procédé.
La connectivité SECS/GEM et l’utilisation de matériaux compatibles FM4910 vont de soi. Nous pouvons traiter des wafers jusqu’à 300 mm (12″) selon les normes les plus strictes.
Le banc humide conforme ATEX est conçu pour éviter les sources d’inflammation potentielles en utilisant des matériaux robustes, des systèmes de ventilation spécifiques et des dispositifs de sécurité précis, afin de garantir la manipulation sûre de solvants inflammables comme l’isopropanol (IPA) et l’acétone.
Nos bancs humides ultramodernes, conçus sur mesure, sont parfaitement adaptés aux exigences de ces applications complexes et offrent une sécurité de procédé maximale, ainsi qu’une efficacité et une précision optimales.
Solutions sur mesure pour des applications exigeantes dans les industries de haute technologie
Développons ensemble la solution idéale pour vos applications chimiques humides. Nous vous conseillons volontiers.