Settore dei semiconduttori e dell’elettronica
Processi chimici umidi nell’industria dei semiconduttori e dell’elettronica
I processi chimici umidi sono onnipresenti e indispensabili nell’industria dei semiconduttori e dell’elettronica. Con le macchine PACE-Tec rappresentiamo questi processi della chimica umida per wafer e substrati in vetro.
Applicazioni tipiche dei banchi da laboratorio umidi:
- Microelettronica: Pulizia e strutturazione di wafer di silicio per la produzione di circuiti integrati (IC) e transistor.
- Fotonica: Lavorazione di wafer in arseniuro di gallio (GaAs) e fosfuro di indio (InP) per componenti optoelettronici come LED o laser.
- Sensoristica: Produzione di MEMS, sensori e attuatori mediante processi di incisione e rivestimento.
- Elettronica di potenza: Lavorazione di wafer in carburo di silicio (SiC) e nitruro di gallio (GaN) per dispositivi ad alta potenza.
- Biotecnologia: Modifica della superficie per sistemi lab-on-a-chip e sensori medicali.
Tra le fasi tipiche del processo nella produzione di wafer che possono essere eseguite con i nostri impianti chimici umidi vi sono:
- Processi di pulizia come SC1 / SC2 / RCA / HF-Dip
- Pulizia a ultrasuoni
- Pulizia a megasound
- Incisione (incisione Au, incisione con nitrito, incisione dell’ossido, incisione con TMAH, incisione con KOH, incisione con NaOH, incisione Al)
- Sviluppo
- Rivestimento autocatalitico
- Stripping
- Lift-off
- Asciugatura
I nostri successi per semiconduttori ed elettronica
I nostri impianti vengono utilizzati ovunque siano richiesti precisione e affidabilità. Qui troverai una selezione di progetti realizzati per i settori dei semiconduttori e dell’elettronica.
Applicazioni complesse nell’industria high-tech
Le nostre macchine possono essere configurate sia come impianti per wafer singoli, sia come impianti a lotti, tenendo conto delle esigenze specifiche del processo.
La possibilità di integrazione SECS-GEM e l’utilizzo di materiali compatibili FM4910 sono garantiti. Con le nostre soluzioni è possibile lavorare wafer fino a 300 mm (12″) rispettando i più alti standard. Il banco da laboratorio umido conforme ATEX è progettato per evitare potenziali fonti di innesco, grazie all’impiego di materiali resistenti, sistemi di ventilazione specializzati e meccanismi di sicurezza precisi che garantiscono una manipolazione sicura di solventi infiammabili come isopropanolo (IPA) e acetone.
I nostri banchi da laboratorio umidi all’avanguardia e personalizzati sono perfettamente adattati alle esigenze di queste applicazioni complesse e offrono la massima sicurezza di processo, efficienza e precisione.
Sviluppiamo insieme la soluzione ideale per le tue applicazioni chimiche umide
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