Soluzione personalizzata di processo umido per l’industria dei semiconduttori
PaceTec ha sviluppato e realizzato una wet bench manuale altamente complessa per processi di pulizia e incisione impegnativi nella produzione di semiconduttori. L’impianto è stato progettato specificamente per mezzi di processo altamente corrosivi, requisiti massimi di cleanroom e i più elevati standard di sicurezza.
Con questa soluzione personalizzata di wet bench, PaceTec dimostra ancora una volta la sua competenza come specialista in:
- Sistemi di processi umidi per l’industria dei semiconduttori
- Wet bench per cleanroom ISO Classe 5
- Sistemi di processi chimici per applicazioni HF, HNO₃ e KOH
- Costruzione di impianti in PFA, ECTFE e FM4910
- Ingegneria di impianti speciali per microelettronica e produzione di semiconduttori
- Controllo automatizzato dei processi e gestione dei fluidi
Sfida: requisiti estremi di sicurezza, cleanroom e resistenza chimica
I requisiti del sistema di processo erano eccezionalmente impegnativi:
- Trattamento di sostanze chimiche altamente aggressive come HF, H₂SO₄, HNO₃, HCl, H₂O₂ e KOH
- Compatibilità con cleanroom ISO Classe 5
- Separazione sicura delle diverse aree di processo
- Esecuzione completamente conforme alle normative ATEX ed EHS
- Elevata flessibilità dei processi per diversi processi di pulizia e incisione
- Materiali resistenti ai mezzi chimici per una sicurezza operativa a lungo termine
- Gestione sicura dei sistemi di aspirazione per vapori acidi e contenenti azoto
- Ricette di processo programmabili individualmente
- Elevata facilità di manutenzione e massima disponibilità dell’impianto
PaceTec ha sviluppato una wet bench configurata individualmente con materiali altamente resistenti e un controllo di processo intelligente.
Punti tecnici salienti della wet bench PaceTec
Costruzione ottimizzata per cleanroom
L’impianto è stato completamente realizzato con materiali conformi FM4910 e ottimizzato per l’uso in ambienti cleanroom altamente sensibili.
Caratteristiche speciali:
- Saldature conformi alle norme cleanroom
- Struttura completamente a tenuta liquidi
- Aree di processo separate per vasche metalliche e plastiche
- Sistema integrato di rilevamento perdite
- Serrande di aspirazione controllate pneumaticamente
- Area di lavoro illuminata a LED
- Sistemi di sicurezza con interblocchi e arresto di emergenza
Vasche di processo altamente resistenti per sostanze chimiche aggressive
Le vasche di processo progettate individualmente consentono la gestione sicura di:
- Acido fluoridrico (HF)
- Acido solforico (H₂SO₄)
- Acido nitrico (HNO₃)
- Acido cloridrico (HCl)
- Perossido di idrogeno (H₂O₂)
- Idrossido di potassio (KOH)
Materiali utilizzati:
- Rivestimento in PFA
- ECTFE
- Acciaio inox (VA)
- Materiali certificati FM4910
In questo modo si ottiene la massima resistenza alla corrosione e sicurezza del processo.
Controllo intelligente dei processi per la massima sicurezza
Funzioni di automazione:
- Gestione individuale delle ricette di processo
- Fasi di processo liberamente programmabili
- Programmi automatici di risciacquo
- Monitoraggio della temperatura
- Monitoraggio dei livelli
- Controllo del flusso dei fluidi
- Registrazione completa dei dati di processo
- Manutenzione remota tramite rete
- Sistema multi-livello di utenti e password
Questo controllo intelligente riduce significativamente gli errori operativi e aumenta la stabilità del processo.
Focus su sicurezza ambientale e sul lavoro
PaceTec ha posto particolare attenzione a:
- Esecuzione conforme CE
- Protezione contro le esplosioni (ATEX)
- Interblocchi di sicurezza hardware
- Sistemi di rilevamento perdite
- Inertizzazione con azoto
- Smaltimento sicuro dei prodotti chimici
- Controllo energetico ottimizzato per l’aspirazione
- Protezione contro emissioni e sostanze pericolose
L’impianto soddisfa tutte le normative europee pertinenti in materia di sicurezza e ambiente.
Risultato: massima sicurezza di processo e alta disponibilità dell’impianto
Con la realizzazione riuscita di questo sistema di processo umido altamente complesso, PaceTec ha ottenuto:
- Massima compatibilità con cleanroom
- Trattamento sicuro di sostanze chimiche aggressive
- Elevata stabilità del processo
- Programmazione flessibile dei processi
- Riduzione dei tempi di manutenzione
- Utilizzo ottimizzato dei mezzi chimici
- Elevata sicurezza operativa
- Produzione di semiconduttori a prova di futuro
Questo progetto dimostra chiaramente la competenza di PaceTec nei sistemi wet bench personalizzati e negli impianti di processo chimico per l’industria dei semiconduttori.
Perché PaceTec?
PaceTec sviluppa e produce soluzioni personalizzate:
- Wet bench
- Sistemi di processi umidi
- Sistemi di pulizia per semiconduttori
- Impianti di processo chimico
- Impianti per cleanroom
- Sistemi speciali per microelettronica
- Sistemi HF
- Sistemi di lift-off e incisione
- Sistemi di pulizia wafer
Made in Germany, progettato per i requisiti più elevati in produzione di semiconduttori, MEMS, fotonica, microelettronica, ricerca e sviluppo e produzione in cleanroom ad alte prestazioni.
