Wet Bench de alta tecnología para limpieza de semiconductores y procesos químicos

Sector

Semiconductores

País

Alemania

Año

2022

Solución personalizada de procesos húmedos para la industria de semiconductores

PaceTec desarrolló y realizó una wet bench manual altamente compleja para procesos exigentes de limpieza y grabado en la fabricación de semiconductores. El sistema fue diseñado específicamente para medios químicos altamente corrosivos, requisitos máximos de sala limpia y los más altos estándares de seguridad.

Wet bench de alta tecnología para limpieza de semiconductores y procesos químicos

Con esta solución personalizada de wet bench, PaceTec demuestra una vez más su competencia como especialista en:

  • Sistemas de procesos húmedos para la industria de semiconductores
  • Wet benches para salas limpias ISO Clase 5
  • Sistemas de procesos químicos para aplicaciones HF, HNO₃ y KOH
  • Construcción de equipos en PFA, ECTFE y FM4910
  • Ingeniería de sistemas especiales para microelectrónica y fabricación de semiconductores
  • Control automatizado de procesos y gestión de medios químicos

Desafío: requisitos extremos de seguridad, sala limpia y resistencia química

Los requisitos del sistema de proceso fueron excepcionalmente exigentes:

  • Procesamiento de químicos altamente agresivos como HF, H₂SO₄, HNO₃, HCl, H₂O₂ y KOH
  • Compatibilidad con sala limpia ISO Clase 5
  • Separación segura de diferentes áreas de proceso
  • Diseño completamente conforme a ATEX y EHS
  • Alta flexibilidad de procesos para diferentes procedimientos de limpieza y grabado
  • Materiales resistentes a productos químicos para seguridad operativa a largo plazo
  • Gestión segura de gases de escape con vapores ácidos y óxidos de nitrógeno
  • Recetas de proceso programables individualmente
  • Alta facilidad de mantenimiento y máxima disponibilidad del sistema

PaceTec desarrolló una wet bench configurada a medida con materiales altamente resistentes y un sistema de control de procesos inteligente.

Aspectos técnicos destacados de la wet bench de PaceTec

Diseño optimizado para sala limpia

El sistema fue fabricado completamente con materiales conformes a FM4910 y optimizado para su uso en entornos de sala limpia altamente sensibles.

Características principales:

  • Soldaduras compatibles con sala limpia
  • Construcción estanca a líquidos
  • Separación de áreas de proceso para baños metálicos y plásticos
  • Sistema integrado de detección de fugas
  • Compuertas de extracción de aire controladas neumáticamente
  • Área de trabajo iluminada con LED
  • Sistemas de seguridad con enclavamientos e interruptores de emergencia

Tanques de proceso altamente resistentes para químicos agresivos

Los tanques de proceso diseñados individualmente permiten el manejo seguro de:

  • Ácido fluorhídrico (HF)
  • Ácido sulfúrico (H₂SO₄)
  • Ácido nítrico (HNO₃)
  • Ácido clorhídrico (HCl)
  • Peróxido de hidrógeno (H₂O₂)
  • Hidróxido de potasio (KOH)

Materiales utilizados:

  • Revestimiento PFA
  • ECTFE
  • Acero inoxidable (VA)
  • Materiales certificados FM4910

Esto garantiza la máxima resistencia a la corrosión y seguridad del proceso.

Control inteligente de procesos para máxima seguridad

Funciones de automatización:

  • Gestión individual de recetas de proceso
  • Pasos de proceso libremente programables
  • Programas automáticos de enjuague
  • Monitorización de temperatura
  • Monitorización de niveles
  • Control de flujo de medios
  • Registro completo de datos de proceso
  • Mantenimiento remoto a través de red
  • Sistema multiusuario con niveles de acceso y contraseñas

Este sistema inteligente reduce significativamente los errores del operador y mejora la estabilidad del proceso.

Enfoque en seguridad ambiental y laboral

PaceTec puso especial énfasis en:

  • Diseño conforme a la normativa CE
  • Protección contra explosiones (ATEX)
  • Enclavamientos de seguridad hardware
  • Sistemas de detección de fugas
  • Inertización con nitrógeno
  • Eliminación segura de productos químicos
  • Control optimizado de energía para extracción de gases
  • Protección contra emisiones y sustancias peligrosas

El sistema cumple con todas las normas europeas relevantes de seguridad y medio ambiente.

Resultado: máxima seguridad de proceso y alta disponibilidad del sistema

Con la exitosa implementación de este sistema de proceso húmedo altamente complejo, PaceTec logró:

  • Máxima compatibilidad con salas limpias
  • Procesamiento seguro de químicos agresivos
  • Alta estabilidad de proceso
  • Programación flexible de procesos
  • Reducción de tiempos de mantenimiento
  • Uso optimizado de productos químicos
  • Alta seguridad operativa
  • Fabricación de semiconductores preparada para el futuro

Este proyecto demuestra claramente la experiencia de PaceTec en sistemas de wet bench personalizados y equipos de procesos químicos para la industria de semiconductores.

Por qué PaceTec?

PaceTec desarrolla y fabrica soluciones personalizadas:

  • Wet benches
  • Sistemas de procesos húmedos
  • Sistemas de limpieza para semiconductores
  • Sistemas de procesos químicos
  • Equipos para salas limpias
  • Sistemas especiales para microelectrónica
  • Sistemas HF
  • Sistemas de lift-off y grabado
  • Sistemas de limpieza de obleas

Made in Germany, diseñado para los requisitos más exigentes en fabricación de semiconductores, producción MEMS, fotónica, microelectrónica, I+D y producción en salas limpias de alta gama.

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