Visión general
En I+D de semiconductores, los procesos húmedos requieren alta precisión y repetibilidad. Se ha implementado una plataforma integrada con cuatro wet benches en sala limpia ISO 5.
Arquitectura del sistema
1. Wet bench automatizado para obleas
Sistema automatizado con robot de manejo de wafers.
- Transporte automático de portadores
- Secuencias químicas multi-bañera
- Enjuague DI integrado
- Compatible ISO 5
2. Wet bench ATEX para solventes
Unidad certificada ATEX para procesos con solventes.
- Diseño antideflagrante
- Seguridad para químicos inflamables
- Extracción dedicada
3. Wet bench manual de desarrollo
Estación manual para desarrollo de procesos.
- Control directo del operador
- Alta flexibilidad
- Prototipado rápido
4. Wet bench manual para limpieza y procesos especiales
- Procesos experimentales
- Substratos individuales
- Integración en infraestructura común
Integración del sistema
- Distribución central de químicos
- Líneas separadas para ácidos y solventes
- Agua DI de alta pureza
- Gestión de residuos neutralizados
- Flujo laminar ISO 5
Resultado
- Desarrollo avanzado de procesos húmedos
- Escalabilidad laboratorio-producción
- Seguridad en solventes (ATEX)
- Alta reproducibilidad de procesos
La plataforma integrada de procesos húmedos proporciona una base sólida para el desarrollo de semiconductores de nueva generación, combinando automatización, seguridad y flexibilidad en un único ecosistema de sala limpia.
