Dans la recherche et développement des semi-conducteurs, les procédés humides doivent être reproductibles et parfaitement contrôlés. Une plateforme intégrée regroupant quatre wet benches a été mise en place en environnement salle blanche ISO 5.
Architecture du système : quatre wet benches complémentaires
1. Wet bench automatisé pour wafers
Système entièrement automatisé avec robot de manipulation de wafers.
- Manipulation automatisée de supports
- Séquences chimiques multi-bains
- Rinçage DI intégré
- Compatibilité salle blanche ISO 5
2. Wet bench solvants ATEX
Wet bench certifié ATEX pour solvants inflammables.
- Conception antidéflagrante
- Procédés de solvants pour lithographie et nettoyage
- Systèmes de sécurité dédiés
3. Wet bench manuel de développement
Station manuelle pour R&D et optimisation de procédés.
- Contrôle direct opérateur
- Flexibilité maximale
- Prototypage rapide
4. Wet bench manuel pour nettoyage et procédés spéciaux
Station flexible pour applications spécifiques.
- Traitement unitaire de substrats
- Chimies expérimentales
- Intégration infrastructure commune
Intégration des procédés
- Distribution chimique centralisée
- Séparation acides, solvants et développeurs
- Eau DI haute pureté
- Traitement des effluents neutralisés
- Flux laminaire ISO 5
Résultat
Plateforme évolutive permettant :
- Développement de procédés humides
- Passage du laboratoire au pilote
- Sécurité renforcée des solvants
- Reproductibilité élevée
La plateforme intégrée de procédés humides constitue une base robuste pour le développement de la prochaine génération de semi-conducteurs, combinant automatisation, sécurité et flexibilité au sein d’un écosystème unique en salle blanche.
