PaceTec a mené à bien un projet technologique de grande envergure pour un institut européen de recherche de premier plan dans le domaine des semi-conducteurs : la conception, la fabrication et l’installation de 10 wet benches sur mesure (bancs de procédés humides) destinés au traitement de wafers de 200 mm (8 pouces) en environnements salle blanche ultra-propre.
Le projet constitue une solution complète de procédés humides pour la recherche et le développement en microélectronique, optimisée pour une stabilité de process maximale, une reproductibilité élevée et une contamination particulaire minimale.
Solution Intégrée de Procédés Humides pour la Recherche en Semiconducteurs
Les systèmes installés couvrent un large spectre de procédés critiques en microfabrication :
- Gravure HF, BOE et oxyde
- Nettoyage SC1 et SC2 avec assistance mégasonique
- Développement de résines à base de TMAH
- Procédés de stripping (Posistrip)
- Nettoyage par ultrasons avec acétone et IPA
- Gravure métallique pour microfabrication avancée
Ces équipements sont conçus pour les environnements de lignes pilotes 8 pouces et de laboratoires de recherche en semiconducteurs.
Conception Ultra Haute Pureté pour la Microélectronique
Le projet répond aux exigences les plus strictes en matière de Ultra High Purity (UHP) :
- Matériaux de grade semi-conducteur : PFA, PTFE, PVDF et quartz
- Absence totale de métaux dans les zones en contact avec les fluides
- Conception optimisée des flux laminaires et des systèmes de débordement
- Performance validée : < 20 particules > 0,3 µm par wafer test
- Contamination métallique extrêmement faible : < 1E10 atomes/cm²
Ces caractéristiques rendent les systèmes parfaitement adaptés à la recherche avancée en semi-conducteurs, MEMS et nanotechnologies.
Architecture Intelligente pour un Contrôle de Procédé Optimal
- Régulation de température PID avec précision ±1 °C
- Séparation complète des zones chimiques, électriques et pneumatiques avec inertisation à l’azote
- Flux laminaire pour compatibilité salle blanche
- Gestion des fuites et débordements via système de plénum
- Mode énergétique Active/Idle avec réduction automatique de l’extraction d’air
Intégration Fluide dans les Infrastructures de Recherche et Fabs
Les wet benches sont compatibles avec les infrastructures modernes de salle blanche :
- Eau DI et eau DI chaude (18 MΩ·cm)
- Alimentation chimique SC1, SC2, HF, H₂O₂, NH₄OH, IPA, acétone
- Systèmes de drainage spécialisés : neutralisation, HF, solvants, Posistrip
- Interfaces industrielles standard : PFA, Swagelok, VCR
Cette compatibilité assure une intégration rapide dans les fabs, lignes pilotes et centres de recherche en microélectronique.
Référence Technologique dans le Traitement Humide des Semi-conducteurs
Avec ce projet, PaceTec renforce sa position dans :
- Équipements wet bench pour semi-conducteurs
- Systèmes de procédés chimiques ultra haute pureté
- Solutions de traitement de wafers 8 pouces
- Équipements de recherche sur mesure pour la microélectronique
Ce projet constitue une référence en matière de technologie de procédés humides pour l’industrie des semi-conducteurs et la recherche avancée.
