PaceTec ha realizzato con successo un progetto altamente complesso per un istituto europeo leader nella ricerca sui semiconduttori: la progettazione, produzione e installazione di 10 wet bench personalizzati (banchi di processo a umido) per la lavorazione di wafer da 200 mm (8 pollici) in ambienti cleanroom ad altissima purezza.
Il progetto rappresenta una soluzione completa per i processi chimici a umido nella microelettronica, progettata per garantire massima stabilità di processo, elevata ripetibilità e contaminazione particellare estremamente ridotta.
Soluzione integrata per processi a umido nei semiconduttori
I sistemi installati coprono un ampio spettro di processi critici nella produzione e ricerca microelettronica:
- Incisione chimica HF, BOE e ossidi di silicio
- Pulizia SC1 e SC2 con supporto megasonico
- Processi di sviluppo fotolitografico basati su TMAH
- Rimozione photoresist (Posistrip)
- Pulizia a ultrasuoni con acetone e IPA
- Incisione di metalli per microfabbricazione avanzata
Le apparecchiature sono progettate per linee di sviluppo su wafer da 8 pollici, laboratori di ricerca e ambienti di R&D nel settore semiconduttori.
Design ultra high purity per la microelettronica
Il progetto soddisfa i più elevati standard di Ultra High Purity (UHP) richiesti nel settore:
- Materiali compatibili con semiconduttori: PFA, PTFE, PVDF e quarzo
- Assenza totale di metalli nelle superfici a contatto con i fluidi
- Ottimizzazione dei flussi laminari e sistemi di overflow controllato
- Prestazioni validate: meno di 20 particelle > 0,3 µm per wafer test
- Contaminazione metallica estremamente bassa: < 1E10 atomi/cm²
Questi requisiti rendono i sistemi ideali per applicazioni di microelettronica avanzata, MEMS e ricerca nanostrutturale.
Architettura intelligente per il massimo controllo di processo
- Controllo della temperatura con regolazione PID (precisione ±1 °C)
- Separazione completa di aree chimiche, elettriche e pneumatiche con inertizzazione ad azoto
- Flusso laminare per compatibilità con ambienti cleanroom
- Sistema integrato di gestione perdite e sversamenti tramite plenum
- Modalità energetica Active/Idle con riduzione automatica dell’estrazione aria
Integrazione nei laboratori e nelle fab di semiconduttori
I wet bench sono pienamente compatibili con infrastrutture moderne per cleanroom:
- Sistemi acqua DI e acqua DI calda (18 MΩ·cm)
- Alimentazione chimica SC1, SC2, HF, H₂O₂, NH₄OH, IPA, acetone
- Sistemi di scarico dedicati: neutralizzazione, HF, solventi, Posistrip
- Interfacce industriali standard: PFA, Swagelok, VCR
Questa compatibilità consente una facile integrazione in fab, linee pilota e centri di ricerca nel settore semiconduttori.
Riferimento nella tecnologia dei processi a umido
Con questo progetto, PaceTec rafforza la propria posizione nei settori:
- Sistemi wet bench per semiconduttori
- Tecnologie di processo chimico ad altissima purezza
- Soluzioni per wafer da 8 pollici
- Apparecchiature su misura per ricerca e sviluppo
Il progetto rappresenta un nuovo riferimento per la tecnologia dei processi a umido nella microelettronica avanzata e nella ricerca sui semiconduttori.
