Nella ricerca sui semiconduttori, i processi wet richiedono elevata precisione e ripetibilità. È stata implementata una piattaforma integrata con quattro wet bench in ambiente ISO 5.
Architettura del sistema
1. Wet bench automatizzato per wafer
Sistema automatizzato con robot di movimentazione wafer.
- Gestione automatica dei carrier
- Sequenze chimiche multi-bagno
- Risciacquo DI integrato
- Compatibilità ISO 5
2. Wet bench ATEX per solventi
Unità certificata ATEX per processi con solventi.
- Struttura antideflagrante
- Sicurezza per liquidi infiammabili
- Sistema di aspirazione dedicato
3. Wet bench manuale R&D
Stazione manuale per sviluppo processi.
- Controllo diretto operatore
- Elevata flessibilità
- Prototipazione rapida
4. Wet bench manuale per pulizia e processi speciali
- Processi sperimentali
- Substrati singoli
- Integrazione infrastrutturale
Integrazione
- Distribuzione chimica centralizzata
- Linee separate per acidi e solventi
- Acqua DI ultrapura
- Gestione scarichi neutralizzati
- Flusso laminare ISO 5
Risultato
- Sviluppo processi wet avanzati
- Scalabilità laboratorio-produzione
- Sicurezza solventi
- Alta riproducibilità
La piattaforma integrata di processi wet rappresenta una base solida per lo sviluppo dei semiconduttori di nuova generazione, combinando automazione, sicurezza e flessibilità in un unico ecosistema per sala bianca.
