Wet Bench Systeme für die Halbleiterindustrie – kundenspezifische Nassprozessanlagen von PaceTec
Die PACE-Tec GmbH gehört zu den führenden europäischen Herstellern kundenspezifischer Wet Bench Systeme und Nassprozessanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen entwickelt und fertigt hochpräzise Anlagen für anspruchsvollste Anwendungen in der Wafer-Reinigung, nasschemischen Ätzung, Oberflächenbehandlung und Mikrostrukturierung.
Für einen führenden Kunden aus der Halbleiterbranche entwickelte PaceTec eine hochkomplexe manuelle Nassbank, die speziell für den Einsatz in hochreinen Produktions- und Entwicklungsumgebungen konzipiert wurde. Die Anlage erfüllt höchste Anforderungen an Reinraumtauglichkeit, Chemikalienbeständigkeit, Prozesssicherheit und Anlagenverfügbarkeit.
Mit dieser kundenspezifischen Wet Bench Lösung unterstreicht PaceTec seine Kompetenz als Spezialist für chemische Prozessanlagen, Wafer-Reinigungssysteme und Nassprozesslösungen Made in Germany.
Maßgeschneiderte Nassbänke für anspruchsvolle Semiconductor-Prozesse
Moderne Halbleiterfertigung stellt höchste Anforderungen an Prozesskontrolle, Reinheit und Materialbeständigkeit. PaceTec entwickelt Wet Bench Systeme, die exakt auf die jeweiligen Kundenanforderungen abgestimmt werden.
Die realisierte Nassbank ermöglicht die sichere Durchführung anspruchsvoller Prozesse wie:
- nasschemisches Ätzen (Wet Etching)
- Wafer-Reinigung
- SC1- und SC2-Reinigungsprozesse
- Entwicklungsprozesse (Photoresist Development)
- Lift-Off-Prozesse
- chemische Oberflächenbehandlungen
- Mikrostrukturierungsprozesse
Die Anlage wurde speziell für den Umgang mit hochaggressiven Medien und sensible Halbleitersubstrate entwickelt.
Herausforderung: Höchste Anforderungen an Reinraum, Sicherheit und Chemikalienbeständigkeit
Die Anforderungen an die Prozessanlage waren besonders anspruchsvoll. Im Fokus standen:
- Verarbeitung hochkorrosiver Chemikalien wie HF, H₂SO₄, HNO₃, HCl, H₂O₂ und KOH
- Reinraumtauglichkeit für ISO-5-Umgebungen
- sichere Trennung unterschiedlicher Prozessbereiche
- höchste Materialbeständigkeit gegenüber aggressiven Medien
- flexible Prozessführung für unterschiedliche Reinigungs- und Ätzverfahren
- sichere Abluftführung für säurehaltige und nitrose Dämpfe
- individuelle Prozessrezepte
- hohe Wartungsfreundlichkeit und maximale Anlagenverfügbarkeit
PaceTec entwickelte hierfür eine individuell konfigurierte Nassbank mit optimierten Werkstoffen, intelligenter Prozesssteuerung und höchsten Sicherheitsstandards.
Technische Highlights der PaceTec Wet Bench
Reinraumoptimierter Anlagenbau
Die Nassbank wurde speziell für den Einsatz in hochsensiblen Reinraumumgebungen entwickelt.
Besondere Merkmale:
- Fertigung aus FM4910-konformen Materialien
- reinraumgerechte Konstruktion
- hochwertige und medienbeständige Schweißverbindungen
- flüssigkeitsdichte Prozessbereiche
- getrennte Bereiche für unterschiedliche Werkstoffe
- integrierte Leckageüberwachung
- pneumatisch gesteuerte Abluftsysteme
- LED-beleuchteter Arbeitsbereich
- Sicherheits-Interlocks und Not-Aus-Systeme
Damit erfüllt die Anlage höchste Anforderungen moderner Semiconductor-Fertigung.
Chemikalienbeständige Prozessbecken für maximale Sicherheit
Die von PaceTec entwickelten Prozessbecken sind für den sicheren Umgang mit anspruchsvollsten Chemikalien ausgelegt.
Verarbeitete Medien:
- Flusssäure (HF)
- Schwefelsäure (H₂SO₄)
- Salpetersäure (HNO₃)
- Salzsäure (HCl)
- Wasserstoffperoxid (H₂O₂)
- Kalilauge (KOH)
Zum Einsatz kommen speziell ausgewählte Werkstoffe wie:
- PFA-Liner
- ECTFE
- FM4910
- Edelstahl
Diese Materialien gewährleisten eine hohe Korrosionsbeständigkeit, lange Lebensdauer und zuverlässige Prozessstabilität.
Intelligente Prozesssteuerung für reproduzierbare Ergebnisse
Ein wesentlicher Bestandteil der PaceTec Nassprozessanlagen ist die intelligente Steuerungs- und Automatisierungstechnik.
Die integrierten Funktionen umfassen:
- frei programmierbare Prozessrezepte
- individuelle Prozessabläufe
- automatische Spülprogramme
- Temperaturüberwachung
- Füllstandsüberwachung
- Medienflusskontrolle
- Prozessdaten-Historisierung
- Benutzerverwaltung mit mehrstufigem Zugriffssystem
- Fernwartungsmöglichkeiten
Durch die präzise Steuerung werden Bedienfehler reduziert und reproduzierbare Prozessergebnisse sichergestellt.
Sicherheit und Umweltschutz im Fokus
Bei der Entwicklung seiner Wet Bench Systeme legt PaceTec besonderen Wert auf maximale Sicherheit für Bediener, Prozesse und Umwelt.
Die Anlagen verfügen unter anderem über:
- CE-konforme Konstruktion
- Sicherheitsüberwachung
- ATEX-konforme Ausführung nach Kundenanforderung
- Leckage-Erkennungssysteme
- Hardware-Sicherheitsverriegelungen
- sichere Chemikalienführung
- optimierte Abluftsysteme
- Schutz vor Gefahrstoffemissionen
Damit erfüllt PaceTec höchste europäische Standards für chemische Prozessanlagen in der Halbleiterindustrie.
Ergebnis: Maximale Prozesssicherheit für die Halbleiterfertigung
Mit der Entwicklung dieser kundenspezifischen Wet Bench Anlage zeigt PaceTec erneut seine Stärke als Partner für anspruchsvolle Semiconductor-Anwendungen.
Die Lösung bietet:
- höchste Reinraumkompatibilität
- sichere Verarbeitung aggressiver Chemikalien
- stabile und reproduzierbare Prozesse
- flexible Prozessanpassungen
- reduzierte Wartungszeiten
- optimierte Mediennutzung
- hohe Anlagenverfügbarkeit
Die Anlage steht beispielhaft für die Kompetenz von PaceTec im Bereich kundenspezifischer Nassprozessanlagen für Halbleiterfertigung, MEMS, Photonik und Mikroelektronik.
