Vishay setzt bei der GaAs-Halbleiterfertigung auf automatisierte Nassprozessanlagen von PaceTec
Die PACE-Tec GmbH unterstützt führende Halbleiterhersteller mit kundenspezifischen Prozessanlagen für die moderne Halbleiterfertigung. Bei der Erweiterung seiner Produktionskapazitäten im Heilbronner Telefunkenpark setzt der Halbleiterhersteller Vishay auf die langjährige Erfahrung und das Engineering-Know-how von PaceTec im Bereich automatisierter Nassprozessanlagen für die Halbleiterindustrie.
Im Rahmen der Investition von Vishay in die Erweiterung der Produktionskapazitäten wurden insgesamt fünf spezialisierte Prozessanlagen von PaceTec entwickelt, gefertigt und in den neu entstandenen Reinräumen am Standort Heilbronn installiert.
Die Anlagen unterstützen verschiedene nasschemische Prozesse zur Herstellung von Halbleiterbauelementen auf Galliumarsenid-(GaAs)-Wafern. Diese Hochleistungs-Chips kommen unter anderem in Sensoranwendungen und elektronischen Systemen unterschiedlichster Branchen zum Einsatz.
Automatisierte Wet Bench Systeme für anspruchsvolle Halbleiterprozesse
Die von PaceTec gelieferten Anlagen wurden speziell für die Anforderungen moderner Halbleiterfertigung entwickelt.
Dabei kombiniert PaceTec umfangreiche Erfahrung in:
- Kunststoffanlagen für hochreine Ätz- und Reinigungsprozesse
- Edelstahl-Nassprozessanlagen für Lösemittelanwendungen
- automatisierte Nassbänke
- chemischen Prozessanlagen für die Waferbearbeitung
- Reinraum-kompatibler Anlagentechnik
Durch diese Kombination ermöglicht PaceTec sichere, reproduzierbare und flexible Prozessabläufe für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterindustrie.
GaAs-Waferbearbeitung mit höchster Prozesssicherheit
Die installierten Prozessanlagen dienen der Automatisierung unterschiedlicher nasschemischer Fertigungsschritte bei der Herstellung von Galliumarsenid-basierten Halbleitern (GaAs).
GaAs-Technologien spielen eine wichtige Rolle in modernen Anwendungen wie:
- Sensorik
- Hochfrequenztechnik (RF)
- Optoelektronik
- Kommunikationstechnologien
- spezialisierten Mikroelektronik-Anwendungen
Die Anlagen von PaceTec unterstützen dabei höchste Anforderungen an Reinheit, Prozessstabilität und Automatisierung.
Maßgeschneiderte Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie
Die Anforderungen von Vishay hinsichtlich:
- Prozesstechnologie
- Reinheit
- Automatisierung
- Flexibilität
- zuverlässiger Anlagenverfügbarkeit
passen ideal zur Plattform-Technologie von PaceTec.
Durch die Entwicklung individueller Nassprozesslösungen bietet PaceTec Halbleiterherstellern weltweit die Möglichkeit, komplexe chemische Prozesse sicher und effizient umzusetzen.
PaceTec – Spezialist für Nassprozessanlagen in der Halbleiterfertigung
PaceTec entwickelt und fertigt kundenspezifische Anlagen für:
- manuelle Nassbänke
- Wafer-Reinigung
- nasschemisches Ätzen
- GaAs- und Compound Semiconductor Prozesse
- Lösemittelprozesse
- Reinraum-Anwendungen
- automatisierte Prozessanlagen
Mit Engineering-Kompetenz, hoher Fertigungstiefe und langjähriger Erfahrung im Halbleiteranlagenbau ist PaceTec ein zuverlässiger Partner für internationale Semiconductor-Hersteller.
„Wir sind stolz Vishay bei seinen weitreichenden Ausbauplänen mit unserem Know-how im Anlagenbau für die Halbleiterindustrie unterstützen zu können. Die hohen Anforderungen von Vishay hinsichtlich Prozesstechnologie, Reinheit, Automatisierung und Flexibilität passen ideal zur Plattform-Technologie von PaceTec. Der zusätzliche regionale Bezug zu Vishay in Heilbronn, durch die Nähe unseres Firmensitzes in Furtwangen, freut uns in diesem Zusammenhang besonders.“
Frank Schienle, Geschäftsführer der PaceTec GmbH
Alle Anlagen konnten fristgerecht und zur vollsten Zufriedenheit in Betrieb genommen werden, weitere Anlagen werden folgen.
