Halbleiter & Elektronik

Nasschemische Prozesse sind in der Halbleiter- und Elektronikindustrie allgegenwärtig und nicht wegzudenken. Mit den PACE-Tec Maschinen bilden wir diese Prozesse in der Nasschemie für Wafer/ Glassubstrate ab. 

Mögliche Applikationen von Wafern & Substraten:

  • Oberflächenreinigung
  • Ätzen
  • Trocknung mit IPA / Heißluft / HF-Ozon
  • Entwicklung von Wafern
  • Strippen
  • Lift- Off
  • Teilereinigung
PaceTec Halbleiter-und-Elektronik Applikationsbeispiel

Anforderungen in der Branche

  • SECS- Gem Anbindung
  • FM4910 kompatibles Material erforderlich
  • unterschiedliche Wafergrößen
  • unterschiedliche Waferstärken
  • Anpassung an den vorhandenen zertifizierten Prozess
  • Evaluierung neuer Prozesse
  • Fertigung im Reinraum mit den individuellen Anforderungen
Wafer Frontal

Vorteile für die Branche

  • unterschiedliche Wafergrößen/-stärken möglich
  • keine Rezertifizierung notwendig
  • individuelle Anpassung an den bisherigen Produktionsprozess beim Kunden

Anwendungs­beispiele Bilder Halbleiter & Elektronik

PaceTec Wafer Applikation 1
PaceTec Wafer Applikation 2
PaceTec Wafer Applikation 3
PaceTec Wafer Applikation 4
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Branchen

In diesen Branchen sind wir besonders stark vertreten

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