Sistema avanzado de procesamiento húmedo GaAs para semiconductores
PaceTec desarrolló una solución personalizada de wet bench para procesos avanzados de wafers GaAs en la industria de semiconductores. La instalación fue diseñada para procesos de resist strip, lift-off, limpieza QDR y aplicaciones químicas con solventes.
PaceTec refuerza así su posición como fabricante especializado de wet benches GaAs, sistemas ATEX para semiconductores, equipos de limpieza química, sistemas lift-off y soluciones high-purity para semiconductores III-V.
Desafío: procesamiento seguro de wafers GaAs
El procesamiento de GaAs requiere:
- Alta estabilidad química
- Control de partículas
- Compatibilidad con solventes
- Condiciones estrictas de sala limpia
El cliente necesitaba una solución manual capaz de operar bajo estándares ISO 3 e ISO 7 y aplicaciones ATEX.
Solución PaceTec: Wet Bench GaAs personalizada
PaceTec diseñó una wet bench modular de acero inoxidable para procesamiento batch de wafers de 4 pulgadas.
Módulo de resist strip
Incluye:
- Tapas refrigeradas
- Agitación neumática opcional
- Ultrasonido
- Configuración en cascada
- Estaciones QDR con control de conductividad
Módulo Lift-Off
El sistema incorpora:
- Procesos calentados hasta 80 °C
- Tecnología N₂ bubbling
- Limpieza ultrasónica
- Hot QDR
- Recuperación de metales preciosos mediante filtración fina
Tecnología ATEX y compatibilidad cleanroom
La instalación cumple requisitos:
- ATEX
- ISO 3 e ISO 7
- Procesamiento químico high-purity
- Limpieza avanzada de wafers
Ideal para:
- Semiconductores compuestos
- RF
- MEMS
- Fotónica
- Optoelectrónica
- Investigación semiconductor
PaceTec como especialista en wet benches para semiconductores
Con soluciones para:
- Procesamiento húmedo GaAs
- Wet benches ATEX
- Sistemas lift-off
- Limpieza QDR
- Equipos químicos high-purity
PaceTec se posiciona como socio tecnológico para la industria microelectrónica y semiconductor.
Conclusión
El proyecto demuestra la experiencia de PaceTec en el desarrollo de sistemas avanzados de procesamiento húmedo para semiconductores. La combinación de tecnología ATEX, química ultrasónica, diseño compatible con sala limpia y procesos high-purity permitió crear una solución eficiente para aplicaciones modernas de lift-off, resist strip y limpieza de wafers GaAs.
