Solution avancée de traitement humide GaAs pour l’industrie des semi-conducteurs
PaceTec a développé une installation de traitement humide sur mesure destinée aux procédés avancés sur wafers GaAs dans l’industrie des semi-conducteurs. Cette solution a été conçue pour le décapage de résine, les procédés lift-off, le nettoyage QDR et les applications chimiques à solvants en environnement salle blanche haute pureté.
Avec ce projet, PaceTec se positionne comme spécialiste des bancs humides GaAs, wet benches ATEX, systèmes de nettoyage pour semi-conducteurs, installations lift-off et équipements high-purity pour semi-conducteurs III-V.
Défi : procédés chimiques sensibles pour wafers GaAs
Le traitement des wafers GaAs exige :
- Une excellente stabilité chimique
- Un contrôle particulaire strict
- Des procédés compatibles solvants
- Une intégration fiable en salle blanche ISO
Le client recherchait une solution manuelle capable d’assurer des procédés fiables pour des applications semi-conducteurs haute performance.
Solution PaceTec : wet bench GaAs sur mesure
PaceTec a conçu une wet bench modulaire en acier inoxydable pour le traitement de wafers GaAs 4 pouces.
Module de décapage GaAs
Le système comprend :
- Couvercles refroidis
- Agitation pneumatique optionnelle
- Ultrasons
- Configuration en cascade
- Rinçage QDR avec contrôle de conductivité
Module Lift-Off GaAs
Le module lift-off intègre :
- Procédés chauffés jusqu’à 80 °C
- Technologie N₂ bubbling
- Nettoyage par ultrasons
- Procédés Hot QDR
- Filtration fine pour récupération de métaux précieux
Technologie ATEX et salle blanche
L’installation répond aux exigences suivantes :
- ATEX
- ISO 3 et ISO 7
- Procédés solvants
- Applications haute pureté
- Nettoyage sensible des wafers
Cette solution convient parfaitement aux applications :
- Semi-conducteurs III-V
- Photonique
- MEMS
- RF et micro-ondes
- Optoélectronique
- R&D semi-conducteurs
PaceTec comme expert des wet benches pour semi-conducteurs
Avec ses solutions de :
- Traitement humide GaAs
- Wet benches ATEX
- Systèmes de nettoyage semi-conducteurs
- Stations QDR
- Procédés lift-off
PaceTec confirme son expertise dans les équipements de procédés chimiques pour l’industrie microélectronique.
Conclusion
Ce projet de wet bench GaAs démontre le savoir-faire de PaceTec dans le développement de solutions avancées de traitement humide pour semi-conducteurs. Grâce à l’intégration de technologies ATEX, de procédés ultrasoniques, d’une conception compatible salle blanche et d’une ingénierie high-purity, PaceTec a réalisé une plateforme performante pour les procédés modernes de décapage, lift-off et nettoyage de wafers GaAs.
