Sistema avanzato di wet processing GaAs per l’industria dei semiconduttori
PaceTec ha sviluppato una soluzione wet bench personalizzata per processi avanzati su wafer GaAs nel settore semiconduttori. Il sistema è stato progettato per resist strip, lift-off, pulizia QDR e applicazioni chimiche con solventi.
PaceTec rafforza così la propria posizione come produttore specializzato di wet bench GaAs, sistemi ATEX, impianti di cleaning semiconduttori, sistemi lift-off e apparecchiature high-purity per semiconduttori III-V.
Sfida: processi GaAs sicuri e stabili
La lavorazione dei wafer GaAs richiede:
- Elevata stabilità chimica
- Controllo particellare
- Compatibilità con solventi
- Integrazione cleanroom ISO
Il cliente necessitava di una soluzione manuale conforme ai requisiti ISO 3, ISO 7 e ATEX.
Soluzione PaceTec: Wet Bench GaAs customizzata
PaceTec ha progettato una wet bench modulare in acciaio inox per wafer GaAs da 4″.
Modulo Resist Strip
Il sistema include:
- Coperchi raffreddati
- Agitazione pneumatica opzionale
- Ultrasuoni
- Configurazione a cascata
- Stazioni QDR con monitoraggio conducibilità
Modulo Lift-Off
La soluzione integra:
- Processi riscaldati fino a 80 °C
- Tecnologia N₂ bubbling
- Cleaning a ultrasuoni
- Hot QDR
- Recupero metalli preziosi tramite filtrazione fine
Tecnologia ATEX e cleanroom
L’impianto soddisfa requisiti:
- ATEX
- ISO 3 e ISO 7
- Processi chimici high-purity
- Cleaning avanzato wafer
Applicazioni ideali:
- Semiconduttori III-V
- RF
- MEMS
- Fotonica
- Optoelettronica
- Ricerca semiconduttori
PaceTec come specialista wet bench per semiconduttori
Con soluzioni per:
- Wet processing GaAs
- Wet bench ATEX
- Sistemi lift-off
- Cleaning QDR
- Impianti high-purity
PaceTec si posiziona come partner tecnologico per l’industria microelettronica e semiconduttori.
Conclusione
Questo progetto dimostra l’esperienza di PaceTec nello sviluppo di sistemi avanzati di wet processing per semiconduttori. Grazie alla combinazione di tecnologia ATEX, chimica a ultrasuoni, progettazione cleanroom e ingegneria high-purity, PaceTec ha realizzato una soluzione altamente efficiente per moderni processi GaAs di resist strip, lift-off e wafer cleaning.
