Hochpräzise Nassbänke für 8 Zoll Wafer in der europäischen Halbleiterforschung
Ein anspruchsvolles Großprojekt im Bereich Halbleitertechnologie und Mikroelektronik für ein führendes europäisches Forschungsinstitut.
Nassprozess-Plattform für Halbleiter im ISO-5-Reinraum
Präzise Nasschemie für die Entwicklung moderner Halbleitertechnologien.
Kundenspezifische Nassbänke an führendes Hochtechnologieunternehmen
Spezialisierten Nassbänke für höchste Anforderungen in der Halbleiterfertigung
Hochmoderne Nassbank für Halbleiterreinigung und Chemieprozesse
PaceTec entwickelte und realisierte eine hochkomplexe manuelle Nassbank für anspruchsvolle Reinigungs- und Ätzprozesse in der Halbleiterfertigung.
GaAs Nassbank für Ablacken und Lift-Off Prozesse in der Halbleiterfertigung
PaceTec realisierte eine kundenneutrale Spezialanlage zur Oberflächenbearbeitung und Resistprozessierung von GaAs-Wafern für Anwendungen in der modernen Halbleiterfertigung.
Präzision in der Ozon-basierten Halbleiterreinigung
Kontinuierliche Miniaturisierung in der Halbleiterindustrie stellt höchste Anforderungen an nasschemische Reinigungs- und Oxidationsprozesse.
Waferbearbeitung bei Vishay
Der Halbleiter-Hersteller Vishay vertraut bei der Einrichtung seiner Halbleiterfertigung im Telefunkenpark auf Anlagentechnik von PaceTec.